Представление документа в формате MARC21

Поле Инд. ПП Название Значение
Тип записи a
Библиографический уровень a
001 Контрольный номер 7af1180cda0f40cbb8e2941de4605644
005 Дата корректировки 20230412153529.5
040 a Служба первич. каталог. НБ ТвГУ
b Код языка каталог. rus
e Правила каталог. PSBO
041 0_ a Код языка текста rus
097 b Оператор Komarova.ES
100 1_ a Автор Лапин Вячеслав Анатольевич
q Полное имя Лапин В. А.
245 10 a Заглавие Выращивание гетероструктур InAlN/Si с высоким содержанием In
260 a Место издания Тверь
b Издательство Тверской государственный университет
504 a Библиография Библиогр.: с. 173-174 (10 назв.)
520 0_ a Аннотация Пленки InAlN на Si (111) были получены с помощью ионно-лучевого осаждения с различными технологическими параметрами роста. Результаты исследования выращенных пленок методом сканирующей электронной микроскопии использовались для выявления условий получения сплошных пленок InAlN. Вследствие рассогласования параметров решетки пленки и подложки, рост имеет островковый характер, сплошную пленку удалось получить только при следующих технологических параметрах: Уровень энергии пучка U = 600 эВ при ионном токе пучка ji = 32 мА, с током нейтрализации пучка jn = 16 мА, температура подложки 400°С. С повышением концентрации азота до 80-90% в газовой смеси происходил переход от островкового к эпитаксиальному механизму роста. Соотношение элементов In, Al и N в пленке показало, активная плазма ионного пучка срывает слабосвязанные ионы и оставляет только нормально встроенные атомы азота N -3 , но чрезмерно сильное воздействие приводит к металлизации пленок.
653 0_ a Ключевые слова Гетероэпитаксия
a Ключевые слова InAlN
a Ключевые слова Ионно-лучевое осаждение
a Ключевые слова Элементный анализ
a Ключевые слова Сканирующая электронная микроскопия
a Ключевые слова Гетероструктуры
700 12 a Другие авторы Касьянов Иван Владимирович
q Полное имя Касьянов И. В.
773 18 w Контрольный № источника 66a126a75abb4d72ab29be0848caee22
t Название источника Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов
d Место и дата издания Тверь : Тверской государственный университет, 2022
g Прочая информация Вып. 14. - С. 168-175
856 40 u URL http://texts.lib.tversu.ru/texts/152913t.pdf
x Примечание для ЭОР Справка УИС 2022
x Примечание для ЭОР Реестр суммарного учета сетевых локальных документов
i Дата подключения ЭОР 20230412
901 t Тип документа a
920 a Оператор Кома
954 b Дата поступления в ОК 20230403